CMP后清洗液
由化学添加剂与水组成，用于去除晶圆表面的研磨颗粒、痕量金属以及有机物残留。
电话：
+86-756-7727669
邮箱：business@cnstchem.com
地址: 广东省珠海市金湾区珠海大道9601号
微信公众号
© 2022 珠海基石科技有限公司 版权所有 粤ICP备2022151331号
由化学添加剂与水组成，用于去除晶圆表面的研磨颗粒、痕量金属以及有机物残留。
电话：
+86-756-7727669
邮箱：business@cnstchem.com
地址: 广东省珠海市金湾区珠海大道9601号
微信公众号
© 2022 珠海基石科技有限公司 版权所有 粤ICP备2022151331号
